從南大光電看 W 底的實(shí)戰(zhàn)運(yùn)用
摘要: ■投資思維■蘇渝此前筆者曾重點(diǎn)分析了南大光電(300346),當(dāng)時(shí)分析的理由是,公司ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目正處于光刻膠樣品驗(yàn)證階段。
■投資思維
■蘇渝
此前筆者曾重點(diǎn)分析了南大光電(300346),當(dāng)時(shí)分析的理由是,公司ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目正處于光刻膠樣品驗(yàn)證階段。公司承接的國(guó)家“02專項(xiàng)”之“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”的基礎(chǔ)建設(shè)按計(jì)劃進(jìn)行;2019年底完成一條生產(chǎn)線的安裝,正在調(diào)試階段。2020年4月 , 公 司 采 購(gòu) 用 于 檢 測(cè)ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品性能的光刻機(jī)運(yùn)入寧波南大光電工廠,5月開始進(jìn)行安裝調(diào)試,預(yù)計(jì)安裝調(diào)試需要4-5個(gè)月的時(shí)間。公司制備ArF(193nm)光刻膠用的高純?cè)牧蟻碓从谧灾餮邪l(fā),研制出的ArF(193nm)光刻膠樣品正在供客戶測(cè)試。目前ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目正處于光刻膠樣品驗(yàn)證階段。公司曾公告,擬斥資6億元建立光刻膠材料項(xiàng)目,與寧波經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)管理委員會(huì)簽署了《投資協(xié)議書》。公司擬在寧波經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)投資開發(fā)高端集成電路制造用各種先進(jìn)光刻膠材料,以及配套原材料和底部抗反射層等高純配套材料,形成規(guī)?;a(chǎn)能力,建立配套完整的國(guó)產(chǎn)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈。該項(xiàng)目計(jì)劃總投資6億元,預(yù)計(jì)總用地50畝。項(xiàng)目完全達(dá)產(chǎn)后,預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)約10億元的年銷售額,年利稅預(yù)計(jì)約2億元。

5月15日南大光電股價(jià)為28元左右,截止6月8日,股價(jià)最高漲到了47.15元,階段漲幅超過50%。當(dāng)時(shí),筆者在技術(shù)分析中指出,該股構(gòu)筑了一個(gè)W底,剛剛向上突破了頸線位,回踩時(shí)可逢低買入。所謂W底又俗稱雙重底。有的莊股在一波拉升后不再一蹴而就地上漲,而是反手回拉,因?yàn)樵谀骋粌r(jià)位套牢者較多,是為了讓這些套牢者低位出局;或者在洗盤探底過程中,讓其他人撿到了大量便宜籌碼,也為了讓這些籌碼獲利了結(jié),通常需要二次探底,同時(shí)試探前期低點(diǎn)的支撐力度。對(duì)投資者來說,股票在二次探底后可在第二次回落中吸納。
與V型反轉(zhuǎn)一樣,當(dāng)某一只股票持續(xù)下跌到某價(jià)位時(shí),也會(huì)快速拉回。當(dāng)拉高至某一價(jià)位后,股票再次回落,此次回落卻不再創(chuàng)出新低,在前期低點(diǎn)附近重新形成上升趨勢(shì)。K線圖組成英文字母W形狀,因此又稱W底,其頸線位置所在,是第一次反抽形成的凸點(diǎn)所畫的一條平直線。
雙重底完成后,突破頸線幅度超過股票市價(jià)3%以上時(shí),是有效突破。測(cè)量完成雙重底的最小升幅,可用頸線價(jià)位減去最低位來測(cè)算價(jià)位,這一價(jià)差加上頸線位的股價(jià),即是突破后的目標(biāo)位。在實(shí)際案例中,有些股票的升幅更高,可達(dá)到最低價(jià)與頸線位距離的1.618倍或2倍。
實(shí)際上,雙重底是V型反轉(zhuǎn)的進(jìn)一步深化,為什么要進(jìn)行二次回落呢?一方面是因?yàn)樵诖驂哼^程中,一部分投資者已在低位吸納了一些籌碼,為了讓這些籌碼提早出局,再次打壓是必要的;另一方面,也是某一價(jià)位套牢者較多,也需引誘套牢者出動(dòng),而不能強(qiáng)攻。
利用雙重底選擇個(gè)股應(yīng)注意的是:雙重底不一定都是反轉(zhuǎn)信號(hào),有時(shí)也會(huì)是整理形態(tài),如果兩個(gè)底點(diǎn)出現(xiàn)時(shí)間非常近,在它們之間只有一個(gè)次級(jí)上升,大部分屬于整理形態(tài),將繼續(xù)朝原方向進(jìn)行股價(jià)變動(dòng)。與之相反,兩個(gè)底點(diǎn)產(chǎn)生時(shí)間相距甚遠(yuǎn),中間經(jīng)過幾次次級(jí)上升,反轉(zhuǎn)形態(tài)形成的可能性較大。值得強(qiáng)調(diào)的是,第二個(gè)底是單針探底,即所謂的地樁線更為可靠。南大光電在構(gòu)筑了一個(gè)W底后便開始騰飛了。
光刻膠,南大光電








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