最近一段時間芯片問題成了國內(nèi)許多科技企業(yè)難以逾越的一個障礙，尤其是華為要遵守一些規(guī)則這件事，讓很多人對芯片有了或多或少的了解。而榮耀打包出售的事件，更是讓大家清晰地意識到芯片困境已到了接近“山窮水盡”的地步。

　　從目前的態(tài)勢來看，要想純依靠外力解決芯片問題是不現(xiàn)實(shí)的，唯有突破技術(shù)瓶頸實(shí)現(xiàn)自主化才能擺脫困境。近日，南大光電正式官宣，在芯片領(lǐng)域的光刻膠技術(shù)上實(shí)現(xiàn)了突破，國內(nèi)首條ARF光刻膠生產(chǎn)線正式建成。

　　ARF光刻膠可用于7nm及以上芯片的制造，是芯片制造的必要產(chǎn)品，一直以來國內(nèi)光刻膠都是進(jìn)口的，大部分來源于日本，而這里就有一個比較尷尬的問題，那就是日本高端光刻膠產(chǎn)業(yè)基本都是由美國對沖資金控制，也就是說美國相當(dāng)于在背后壟斷了這個行業(yè)。

　　而美國對于華為的做法讓很多人提心吊膽，殊不知哪天突然又來一些規(guī)定，把光刻膠的來源又給限制了。在筆者看來，南大光電的ARF光刻膠技術(shù)讓中芯國際看到了希望，因?yàn)橛钟幸豁?xiàng)核心技術(shù)實(shí)在了國產(chǎn)化，不用看美國的臉色了。

　　大家都知道，芯片的制造難度非常大，制程越小的芯片集成線路越多，要想讓線路實(shí)現(xiàn)有規(guī)則的布局，那么光刻技術(shù)和刻蝕技術(shù)工藝就是必須要應(yīng)用的，而這種工藝實(shí)現(xiàn)的前提就是需要高端的光刻膠。

　　今年手機(jī)芯片已經(jīng)入了5nm時代，光刻和蝕刻工序就占到芯片整體生產(chǎn)周期的一半以上，所以對光刻膠的要求就越來越高，當(dāng)下主流的光刻膠就是ARF光刻膠，占據(jù)了接近光刻膠整體市場的一半份額。

　　上面說到了國內(nèi)光刻膠大部分進(jìn)口于日本，并且這些產(chǎn)業(yè)基本都由美國控制，最主要的是因?yàn)楣饪棠z技術(shù)壁壘高，尤其是在光阻材料方面，而這項(xiàng)技術(shù)還是由美國把持的。所以說，南大光電的ARF光刻膠技術(shù)的突破是極具意義的。

　　當(dāng)然了，光刻膠僅是芯片制造的一個環(huán)節(jié)，要想把光刻膠用好，那么還需要有好的光刻機(jī)。前幾個月，ASML已經(jīng)官宣向我國出售一些光刻機(jī)了，但什么時間能到貨目前還沒有準(zhǔn)確的消息。

　　筆者認(rèn)為，芯片道路不可能一蹴而就，國產(chǎn)科技企業(yè)每實(shí)現(xiàn)一次技術(shù)突破都是值得鼓勵的，畢竟從當(dāng)下國產(chǎn)芯片的發(fā)展速度來看，要遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過很多人的預(yù)期。

　　諸多科技企業(yè)都在加快技術(shù)研制的步伐，消息稱華為初期也將投資100億在上海建芯片工廠。國家也在宏觀上對芯片產(chǎn)業(yè)給予支持，希望國內(nèi)科技企業(yè)能夠頻傳好消息，在光刻膠技術(shù)突破瓶頸之后，再為國產(chǎn)芯片注入新的活力。

　　最近高通、三星等也都獲得了供貨許可，雖然制程有限，但一切都在向好發(fā)展，三星與vivo合作首發(fā)5nm芯片、小米占股高通等消息都預(yù)示著國產(chǎn)芯片可能快要見到曙光了。但我們也要清楚意識到自己的差距，不能剛?cè)〉靡稽c(diǎn)成績就沾沾自喜，畢竟國產(chǎn)芯片與世界的差距太大了。