繼中芯國際續(xù)單ASML光刻機(jī)后，近日，【上海新陽(300236)、股吧】公告稱，經(jīng)各方積極協(xié)商、運作，ASML-1400光刻機(jī)設(shè)備已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心（北京）有限公司場地，后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。

　　上海新陽表示，公司采購的ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付，對加快193nmArF干法光刻膠產(chǎn)品開發(fā)進(jìn)度有積極影響，有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力，加快落實公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

　　光刻膠究竟是什么？為什么這么重要？事實上，芯片制造中難度最大、耗時最久的工藝就是光刻，其成本超過整個芯片生產(chǎn)成本的30%。而在光刻環(huán)節(jié)中，光刻膠的作用至關(guān)重要。資料顯示，光刻膠是一種對光敏感的混合液體，其主要作用是通過光化學(xué)反應(yīng)，基于曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰涛g的細(xì)微圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工硅基片上。除了提高加工精度，光刻膠還可以保護(hù)硅基材免受腐蝕，阻止離子影響。

　　根據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)與國元證券研究中心聯(lián)合發(fā)布的《全球光刻膠生產(chǎn)企業(yè)市場份額》數(shù)據(jù)，目前全球光刻膠主要企業(yè)有日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、住友化學(xué)、信越化學(xué)、美國羅門哈斯等，市場集中度非常高，所占市場份額超過85%。尤其是半導(dǎo)體光刻膠市場，70%的市場份額基本被日本廠商所占據(jù)。相較之下，由于起步較晚，缺乏技術(shù)、人才資源，國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠廠商的市場份額僅占2%左右，且主要都集中于G線（436nm）、I線（365nm）等低端品種，ArF光刻膠等高端種類幾乎完全依賴進(jìn)口。

　　業(yè)內(nèi)分析人士認(rèn)為，上海新陽立足電子電鍍、電子清晰、電子光刻三大核心技術(shù)，是一家能夠為晶圓銅制程90-28nm技術(shù)節(jié)點提供超純電鍍液及添加劑的本土企業(yè)。在引進(jìn)ASML-1400后，上海新陽有可能率先在高端光刻膠方面取得實質(zhì)性成果。以上海新陽的光刻膠項目進(jìn)度來看，預(yù)計ArF光刻膠于2022年便可實現(xiàn)少量銷售，2023年則能大批量產(chǎn)，步入廣泛的商用階段。

　　ArF光刻膠對28nm到7nm工藝的芯片生產(chǎn)具有關(guān)鍵作用。

　　截至目前，我國最大的芯片代工商——中芯國際最先進(jìn)的芯片制程也才達(dá)到了14nm。業(yè)內(nèi)人士評論稱，光刻膠作為半導(dǎo)體光刻工藝的核心材料，決定了半導(dǎo)體圖形工藝的精密程度和良率，成為了其中最受矚目的環(huán)節(jié)之一。未來，在高端ArF光刻膠領(lǐng)域研發(fā)和量產(chǎn)持續(xù)突破，將直接作用于中國芯的制造進(jìn)程，為集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展提供驅(qū)動力。