12月15日，光刻機概念集體走強，艾森股份20cm漲停，南大光電（300346）、【恒坤新材(688727)、股吧】、彤程新材（603650）、中潤光學等漲幅居前。

　　消息面上，據(jù)報道，阿斯麥(ASML)首席執(zhí)行官克里斯托夫.富凱表示，公司為High-NAEUV(高數(shù)值孔徑極紫外光刻機)所設(shè)計的光刻改進方案已得到驗證，成像效果極佳，分辨率非常出色。目前公司正與客戶合作，以全面完善該光刻系統(tǒng)的成熟度。報道稱，阿斯麥將與客戶密切配合，確保High-NAEUV在明年內(nèi)實現(xiàn)停機時間降至最低的穩(wěn)定運行。富凱預計，High-NAEUV將在2027至2028年間實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。

　　光刻機，是整合了包括光源系統(tǒng)、光學系統(tǒng)、雙工件臺、掩模臺、自動對準、調(diào)焦調(diào)平、傳輸系統(tǒng)以及環(huán)境控制等十多個關(guān)鍵分系統(tǒng)。

　　從原理來看，簡單來說，光刻機使用特定波長的光束，透過一塊印有電路圖的掩模版，再經(jīng)過一組極其精密的光學鏡頭將圖形精確縮小，最終將掩模版上的圖案投射到涂有光刻膠的硅片上，完成圖形轉(zhuǎn)移。其原理與照相十分類似，但精細度要求較高。

　　據(jù)了解，在芯片制造過程中，一般需要進行20-30次光刻才能完成各層圖形的傳遞，每一次都需要經(jīng)過一整套復雜的工藝過程,包括沉積、涂膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入、光刻膠移除等重要步驟。在芯片制造過程中，光刻是最復雜、昂貴和關(guān)鍵的工藝，光刻的成本約為整個制造工藝成本的1/3，耗費時間約占整個制造工藝時間的40%-60%，因此，光刻也被稱為芯片制造的“心臟”。

　　今年6月，世界半導體貿(mào)易統(tǒng)計組織(WSTS)預測，2025年全球半導體市場規(guī)模將達到7009億美元，同比增長11.2%；并預測市場到2026年將增長8.5%，達到7607億美元。

　　值得注意的是，12月，WSTS發(fā)布的全球半導體市場最新預測顯示，2025年全球半導體營收有望同比增長22.5%至7720億美元，2026年將再增長26.3%，達9750億美元。

　　此外，美國半導體行業(yè)協(xié)會(SIA)在11月公布的數(shù)據(jù)顯示，2025年第三季度全球半導體銷售額達2084億美元，較第二季度環(huán)比增長15.8%。

　　與此同時，我國光刻機領(lǐng)域也不斷迎來突破。國金證券表示，2016年上海微電子90nmArF光刻機SSA600系列實現(xiàn)出貨。2020年華卓精科生產(chǎn)的光刻機雙工件臺，打破了ASML公司在光刻機工件臺上的技術(shù)壟斷。2025年，哈爾濱工業(yè)大學官宣了成功研制出13.5nm波長的極紫外光刻光源，這是光源技術(shù)上備受矚目的一項突破。中科院上海光機所成功研發(fā)了全固態(tài)深紫外光源系統(tǒng)，使得中國芯片工藝推進至3納米理論極限。

　　這里為大家整理了部分光刻機概念股，需要注意的是，相關(guān)概念股僅供投資者參考，不構(gòu)成任何投資建議。

　　1、張江高科（600895）：公司通過旗下全資子公司上海張江浩成創(chuàng)業(yè)投資有限公司間接參股上海微電子裝備(集團)股份有限公司，持股比例10.78%

　　2、茂萊光學：提供光學透鏡、棱鏡等精密光學元件，用于光刻機光學系統(tǒng)

　　3、波長光電：產(chǎn)品包括用于光刻機的反射鏡、聚焦鏡、場鏡等光學元器件

　　4、彤程新材：旗下北京科華是KrF光刻膠國內(nèi)最大供應商，ArF光刻膠已批量供貨

　　5、炬光科技：提供光刻機用光學系統(tǒng)、激光器等核心元器件

　　6、富創(chuàng)精密：公司為光刻機等半導體設(shè)備提供精密機械零部件、模組產(chǎn)品

　　7、新萊應材（300260）：公司的高純及超高純應用材料可以滿足潔凈氣體、特殊氣體和計量精度等特殊工藝的要求，同時也可以滿足泛半導體工藝過程中對真空度和潔凈度的要求

　　8、海立股份（600619）：公司與微電子裝備集團雙方領(lǐng)導就項目合作、產(chǎn)品配套等內(nèi)容進行深入探討