消息，根據(jù)企查查數(shù)據(jù)顯示有研硅（688432）新獲得一項發(fā)明專利授權(quán)，專利名為“一種用于消除半導(dǎo)體拋光片表面色斑的裝置與方法”，專利申請?zhí)枮镃N202311498465.X，授權(quán)日為2024年2月13日。

　　專利摘要：本發(fā)明公開了一種用于消除半導(dǎo)體拋光片表面色斑的裝置與方法，屬于半導(dǎo)體材料加工領(lǐng)域。該裝置具備：反應(yīng)室、紫外光源組件、臭氧循環(huán)系統(tǒng)以及旋轉(zhuǎn)機構(gòu)；其中，反應(yīng)室由上反射板、下反射板及反射腔室組成，上反射板和下反射板分別與反應(yīng)腔室側(cè)壁密封連接，在反射腔室側(cè)壁的上部和下部分別通過氣密閥經(jīng)密封管路與臭氧循環(huán)系統(tǒng)連接；紫外光源組件包括設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)的紫外光源陣列以及控制照射光強度與時間的紫外光功率控制器；旋轉(zhuǎn)機構(gòu)包括花籃卡臺、驅(qū)動電機、滾軸，所述滾軸設(shè)置在花籃卡臺上，并與花籃內(nèi)的拋光片的邊緣摩擦接觸；所述驅(qū)動電機驅(qū)動滾軸轉(zhuǎn)動從而帶動拋光片旋轉(zhuǎn)。該方法通過紫外線陣列及臭氧循環(huán)去除拋光片表面的色斑。

　　今年以來有研硅新獲得專利授權(quán)3個，較去年同期增加了200%。結(jié)合公司2023年中報財務(wù)數(shù)據(jù)，2023上半年公司在研發(fā)方面投入了4347.69萬元，同比增17.39%。

　　數(shù)據(jù)來源：企查查