消息，國林科技(300786)08月15日在投資者關(guān)系平臺上答復(fù)投資者關(guān)心的問題。

　　投資者：公司是否有銷售晶體乙醛酸實驗試劑？一般這種98％純度的晶體乙醛酸實驗試劑價格是常規(guī)晶體乙醛酸價格的4-5倍。一般25kg，就是3000-4000元。請問公司有生產(chǎn)銷售此類高價值乙醛酸一水合物（晶體乙醛酸）實驗試劑嗎？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。公司乙醛酸產(chǎn)品品質(zhì)可以滿足實驗試劑質(zhì)量標(biāo)準要求。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司跟國產(chǎn)光刻膠客戶有合作聯(lián)系嗎？就針對光刻膠臭氧清洗這塊？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。子公司國林半導(dǎo)體目前主要下游客戶群體為半導(dǎo)體、光伏、面板等領(lǐng)域。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司的業(yè)務(wù)布局里，新疆是重要的戰(zhàn)略部分對嗎？具體是什么？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。2024年，子公司新疆國林所生產(chǎn)的乙醛酸及其副產(chǎn)品實現(xiàn)營業(yè)收入10,605.25萬元，占公司營業(yè)收入比重40.98%，化工業(yè)務(wù)是公司在臭氧技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域的新探索。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司及子公司是否有享受西部大開發(fā)政策的稅收優(yōu)惠？公司是否有參與西部大開發(fā)經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)建設(shè)中？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。新疆國林新材料有限公司目前享受西部大開發(fā)企業(yè)所得稅優(yōu)惠。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司子公司國林新材料官網(wǎng)顯示，公司可制備99％純度的乙醛酸，是否屬實？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。公司生產(chǎn)的乙醛酸一水化合物合格品濃度≥98%，優(yōu)級品濃度≥ 98.5%，公司可對產(chǎn)品進一步提純以滿足不同客戶需求。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司目前的半導(dǎo)體產(chǎn)品設(shè)備有生產(chǎn)出哪些半導(dǎo)體特種氣體？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。公司目前可提供“臭氧水發(fā)生器、氨水發(fā)生器、二氧化碳水發(fā)生器”等類型的機能水設(shè)備及臭氧氣體發(fā)生器，可應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)各品類的先進＆前沿制程中。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：公司的半導(dǎo)體臭氧設(shè)備能否對提升國產(chǎn)晶圓及芯片的良率提供幫助？具體提高良率的原理是什么？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。公司自主研發(fā)的半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備具備高濃度、高精度、高純度及高穩(wěn)定性的技術(shù)特點。在晶圓清洗環(huán)節(jié)，臭氧水可高效去除表面有機污染物和金屬雜質(zhì)，避免殘留物導(dǎo)致的電路短路或性能缺陷，臭氧氣體發(fā)生器在氧化工藝中形成均勻致密的氧化層，提升器件電性能，可以有效提升產(chǎn)品良率。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：目前國內(nèi)商業(yè)航天發(fā)射進入高頻期，經(jīng)查閱資料，發(fā)現(xiàn)火箭試車及發(fā)射時，會產(chǎn)生大量的助推劑廢水需要處理。請問目前，公司的臭氧法處理火箭助推劑，是比較好的選擇嗎？其優(yōu)點在哪？目前公司的火箭客戶還在使用公司的產(chǎn)品技術(shù)嗎？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。火箭試車及發(fā)射過程中會產(chǎn)生大量廢水，這類廢水具有劇毒、成分復(fù)雜、致癌性強等特點，利用臭氧的強氧化性，可將水體中的大分子有機物氧化為小分子有機物，增強有機物的可生物降解性，提高處理工藝凈化效率。臭氧氧化技術(shù)因其獨特的優(yōu)勢，已成為處理火箭推進劑廢水的重要方法之一。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：目前臭氧水清洗成為3nm以下先進制程的優(yōu)選方案。目前國際東京電子（TEL）實驗顯示，臭氧水對EUV 光刻膠的去除率比硫酸﹣雙氧水混合液(SPM）高20%，且無硫殘留。臺積電在3nm制程中采用臭氧水預(yù)處理，使晶圓缺陷密度降低15%。ASML的混合工藝：臭氧水+兆聲波（Megasonic）協(xié)同清洗，減少物理損傷。請問公司是否了解上述行業(yè)發(fā)展？公司能否介紹一下臭氧水在3nm以下制程的優(yōu)勢？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。臭氧水在3nm及以下先進制程中的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在其高氧化性、清潔效率和環(huán)保特性上，能夠滿足半導(dǎo)體制造對精度、缺陷控制和材料兼容性的嚴苛要求。感謝您的關(guān)注。

　　投資者：相比傳統(tǒng)等離子蝕刻，臭氧蝕刻對基材損傷更小，適用于高精度圖形化工藝。減少熱應(yīng)力，避免第三代半導(dǎo)體材料（如碳化硅）因高溫導(dǎo)致的晶格缺陷。公司到底有沒有蝕刻工藝的臭氧設(shè)備？能否用于第三代半導(dǎo)體制造？

　　國林科技董秘：尊敬的投資者，您好。公司現(xiàn)有半導(dǎo)體專用臭氧系統(tǒng)設(shè)備可以應(yīng)用于蝕刻工藝、第三代半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝。感謝您的關(guān)注。

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