荷蘭光刻機(jī)沒有想象中強(qiáng)大，我們的光刻機(jī)雖然還在努力但也不弱。我們經(jīng)常聽說EUV刻機(jī)器，它在7納米后取代了芯片生產(chǎn)的原DUV光刻機(jī)器。前者沒有工藝級(jí)限制，后者在最高工藝級(jí)只能達(dá)到7nm。但是，目前只有荷蘭的ASML能制造EUV  光刻機(jī)！

　　然而，華為事件給我們敲響了警鐘，中國(guó)科學(xué)院沖進(jìn)光刻機(jī)器領(lǐng)域，要求布局克服相應(yīng)的技術(shù)難題，消息來自國(guó)外媒體。荷蘭阿斯莫爾慌了！不是說荷蘭ASML科技是第一嗎？怎么改？事實(shí)上，荷蘭ASML并沒有那么強(qiáng)大！

　　荷蘭光刻機(jī)沒有想象中強(qiáng)大。

　　首先，EUV光刻已經(jīng)存在了很長(zhǎng)時(shí)間，但它不是最近幾年的產(chǎn)物。但是，EUV  光刻當(dāng)時(shí)只停留在實(shí)驗(yàn)室階段，無法大規(guī)模進(jìn)入工業(yè)應(yīng)用，從而取代工廠！問題的關(guān)鍵在于光刻工廠提供的生產(chǎn)能力和性能不能滿足芯片的生產(chǎn)要求。

　　例如，在2014年，ASML實(shí)驗(yàn)室階段的EUV  光刻機(jī)器每小時(shí)只能處理10個(gè)晶片。顯然，它根本無法滿足臺(tái)積電， 三星， 英特爾和其他芯片制造商的“胃口”；不僅如此，高昂的成本超出了人們的想象！市場(chǎng)不會(huì)接受這樣的光刻機(jī)器！

　　其次，2017年，荷蘭ASML研發(fā)的EUV  光刻機(jī)勉強(qiáng)達(dá)到商業(yè)要求，3400B二代EUV  光刻機(jī)每小時(shí)可加工125片晶圓！但是到了2019年，三代機(jī)3400C真的跨越了，每一代機(jī)的水平都沒有多大提升，連研發(fā)費(fèi)用都沒了！

　　最后，荷蘭ASML將于2021年發(fā)布3400D。據(jù)說性能提升只有18%！特別是荷蘭的ASML沒有那么強(qiáng)大，產(chǎn)能很低。就連最近去世的三星， 李健熙的兒子李在镕，也曾在荷蘭!的ASML總部搶購(gòu)商品。

　　為什么荷蘭的ASML正忙著推出一款新的光刻機(jī)器？荷蘭ASML忙著推出新機(jī)器是有原因的，但是性能不高！芯片概念。

　　我們的光刻機(jī)雖然還在努力但也不弱。

　　首先，是我們國(guó)內(nèi)對(duì)布局光刻飛機(jī)的需求！畢竟中國(guó)科學(xué)院實(shí)力很強(qiáng)，荷蘭ASML只是一個(gè)公司！我們只能抓緊開發(fā)新機(jī)器來維持我們的市場(chǎng)地位！

　　其次，是光刻機(jī)器的技術(shù)。事實(shí)上，光刻機(jī)器最重要的是光源。EUV  光刻機(jī)光源13.5nm，成熟的DUV  光刻機(jī)主要使用193nm。波長(zhǎng)越短，工藝水平越高，物鏡數(shù)量也是影響因素之一。數(shù)值越高，光刻裝置提供的加工水平越高，這些物鏡都是手工拋光的！

　　事實(shí)上，荷蘭的ASML也是一個(gè)組裝制造商，沒有太多的技術(shù)。光源技術(shù)主要由美國(guó)，提供，物鏡由蔡司，德國(guó)提供

　　最后，是中科院的實(shí)力。雖然沒多久中科院就正式宣布了布局光刻機(jī)，但是其他人的技術(shù)都是一流的，很多。中科院微電子研究所開發(fā)的關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)也有效提高了光刻機(jī)的分辨率，提升了技術(shù)水平！這是荷蘭ASML無法比擬的，技術(shù)優(yōu)先于荷蘭ASML！

　　中國(guó)光刻將加油！

　　雖然荷蘭ASML公司有大大小小的問題，但ASML確實(shí)壟斷了整個(gè)高端光刻機(jī)的市場(chǎng)，我們不得不承認(rèn)，承認(rèn)別人比我們強(qiáng)沒什么！技術(shù)上一個(gè)是一個(gè)，從來沒有臉這種東西！做科研自知很重要！

　　荷蘭光刻機(jī)沒有想象中強(qiáng)大，我們的光刻機(jī)雖然還在努力但也不弱。

　　荷蘭ASML非常有自知之明，它知道自己的問題，所以它不斷推出新的光刻機(jī)器，并希望保持領(lǐng)先地位！我們也應(yīng)該有自知之明，努力解決芯片的困難問題。