南大光電：公司目前研發(fā)的產品包含干式光刻膠和浸沒式光刻膠
來源： 互聯(lián)網(wǎng)
作者：佚名
摘要： 南大光電(300346.SZ)1月7日在投資者互動平臺表示，ArF光刻膠可以用于 90nm-14nm 技術節(jié)點的集成電路制造工藝。公司目前研發(fā)的產品包含干式光刻膠和浸沒式光刻膠。
有投資者在投資者互動平臺提問：您好，請問貴司的ARF光刻膠是干法還是浸濕法？是否可以用于 90nm-14nm 技術節(jié)點的集成電路制造工藝？
南大光電(300346.SZ)1月7日在投資者互動平臺表示，ArF光刻膠可以用于 90nm-14nm 技術節(jié)點的集成電路制造工藝。公司目前研發(fā)的產品包含干式光刻膠和浸沒式光刻膠。
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