什么是光刻膠，是一種對光敏感的混合液體。其成分包括：光引發(fā)劑、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他添加劑。光刻膠可以通過光化學反應(yīng)和光刻工藝（如曝光和顯影）將所需的精細圖案從光照（掩模版）轉(zhuǎn)移到待處理的襯底上。

　　根據(jù)統(tǒng)計，2019年全球光刻膠市場預計近90億美元，CAGR自2010年以來約占5.4％。預計到2022年全球光刻膠市場將突破100億美元。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠可分為PCB光刻膠，顯示面板光刻膠，半導體光刻膠等光刻膠不同種類的光刻膠在全球市場的市場結(jié)構(gòu)相對均衡，具體比例如下圖所示。

　　根據(jù)智研咨詢的數(shù)據(jù)，得益于半導體、顯示面板和印刷電路板產(chǎn)業(yè)，的東移，中國光刻膠本地供應(yīng)規(guī)模自2011年以來的年增長率達到11％，高于全球5％的平均增長率。2019年本地企業(yè)在中國光刻膠市場的銷售規(guī)模約為70億元，約占全球市場的10％，發(fā)展空間巨大。目前，中國的光刻膠主要使用光刻膠生產(chǎn)多氯聯(lián)苯，而光刻膠用于平板顯示器和半導體的供應(yīng)量極低。

　　光刻膠分類

　　在平板顯示行業(yè)；主要使用彩色和黑色光刻膠，LCD觸摸屏用光刻膠，薄膜晶體管液晶顯示器正性光刻膠。在光刻和蝕刻的生產(chǎn)過程中，光刻膠被涂覆在晶體薄膜的表面，掩模（掩模板）上的圖案通過曝光、顯影和蝕刻被轉(zhuǎn)移到膜上，以形成對應(yīng)于掩模板的幾何圖形。

　　在PCB行業(yè)；光刻膠主要使用的是干膜光刻膠，濕膜光刻膠，感光阻焊油墨等。干膜用一種特殊的薄膜附著在經(jīng)過處理的覆銅板上進行曝光和顯影；在覆銅板上涂上濕膜和光成像阻焊油墨，干燥后曝光顯影。干膜和濕膜各有優(yōu)勢。一般來說，濕膜的光刻膠分辨率比干膜高，價格也低。它正在取代光刻膠， 干膜的一些市場

　　在半導體集成電路制造業(yè)；主要使用的有g(shù)線的光刻膠，I線的光刻膠，krf的光刻膠，ARF的光刻膠等。在大規(guī)模集成電路，硅片的制造過程中，一般要經(jīng)過十多次光刻。在每個光刻和刻蝕工藝中，光刻膠通過預烘焙、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影和蝕刻將掩模上的圖案轉(zhuǎn)移到硅晶片上

　　光刻膠是集成電路制造的重要材料，光刻膠的質(zhì)量和性能是影響集成電路性能、產(chǎn)量和可靠性的關(guān)鍵因素，光刻工藝的成本約為芯片，整個，制造工藝的35％，耗時約為芯片的40％-50％。因此，光刻膠是集成電路半導體制造的核心材料。

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