據(jù)“衛(wèi)星”新聞通訊社消息,俄羅斯核研究大學(xué)(莫斯科工程物理學(xué)院--NRNUMEPhI)的科學(xué)家們?cè)凇侗砻媾c涂層技術(shù)》雜志上發(fā)表的文章中稱,他們研制出能在熔融材料的蒸汽中產(chǎn)生強(qiáng)電流脈沖磁控放電的等離子發(fā)生器。用此新技術(shù)可以更快地噴涂出高科技領(lǐng)域中需要的薄膜,而且能保持高質(zhì)量水準(zhǔn)。

　　磁控濺射--是對(duì)使用節(jié)能涂層材料的建筑物玻璃進(jìn)行沉淀(可有各種顏色)的唯一方法。磁控可將能顯著提高性能的硬涂層噴射到切割工具上,比如用氮化鈦代替黃金,涂在教堂的圓頂上。在微電子學(xué)中,這種辦法被用于集成電路板的金屬化;在光學(xué)中,可用來(lái)生產(chǎn)濾光器;也可用來(lái)生產(chǎn)疏水涂層。

　　莫斯科工程物理學(xué)院的科學(xué)家們研制的等離子發(fā)生器設(shè)備由等離子接頭和電源組成,在特殊的磁控放電模式下工作,在這些模式下,與濺射一起,發(fā)揮熔融材料的強(qiáng)烈蒸汽作用,以此形成涂料。

　　莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員亞歷山大·杜馬爾金說(shuō):“在零件上的薄膜慢速增長(zhǎng)與真空蒸發(fā)相比,長(zhǎng)期以來(lái)一直都是磁控濺射、包括高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的問(wèn)題。反過(guò)來(lái)看,用真空蒸發(fā)獲得的涂料從質(zhì)量上也比磁控的差很多。因此,工業(yè)人士一直都面臨著困境,即:是要企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量還是要產(chǎn)量。在被生產(chǎn)的用于研究帶陰極的脈沖磁控放電設(shè)備中,我們成功地將兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)合二為一。我們已經(jīng)學(xué)會(huì)在保證質(zhì)量情況下的高速濺射”。

　　據(jù)科學(xué)家介紹,獲取的設(shè)備模式以及進(jìn)行診斷的結(jié)果表明,熔融靶標(biāo)的強(qiáng)電流噴鍍擁有巨大的技術(shù)潛力?，F(xiàn)在專家們正致力于計(jì)劃在未來(lái)被投入生產(chǎn)的裝置的工業(yè)樣品工作。

　　莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員安德烈·卡奇耶夫說(shuō):“設(shè)備的工業(yè)樣品和用于生產(chǎn)高質(zhì)量單獨(dú)涂層的模塊一樣。我們的潛在客戶是生產(chǎn)節(jié)能窗、現(xiàn)代能源組件以及各型材機(jī)械制造的企業(yè)”。

　　在全球,磁控濺射法占了生產(chǎn)適用于電子、機(jī)械、建筑和其他方面的金屬及介電涂層市場(chǎng)上的很大一部分份額。該方法是對(duì)被加工的零件涂上借助等離子、通過(guò)特別靶標(biāo)噴出的材料。目前,磁控濺射鍍膜是在高技術(shù)領(lǐng)域中生產(chǎn)薄膜的最常見(jiàn)的方式。

　　80年代末,在莫斯科工程學(xué)院的強(qiáng)電流脈沖磁控放電中的發(fā)現(xiàn)是對(duì)該領(lǐng)域研究的重大推動(dòng)。21世紀(jì)的前10年,歐洲和美國(guó)在此基礎(chǔ)上推行高功率脈沖磁控濺射技術(shù)(HiPIMS)。脈沖磁控的主要研究動(dòng)機(jī)和應(yīng)用是獲得用任何其他裝置和方法都無(wú)法做出的特性涂料。