| 普達(dá)特科技(00650)盤中漲超20% 半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化比例仍較低 公司有望持續(xù)受惠
來源： 互聯(lián)網(wǎng)
作者：佚名
摘要： 獲悉，普達(dá)特科技(00650)盤中漲超20%，截至發(fā)稿，漲14.55%，報(bào)0.63港元，成交額9351.32萬港元。消息面上，普拉達(dá)科技此前發(fā)布公告，于10月30日，
獲悉，普達(dá)特科技(00650)盤中漲超20%，截至發(fā)稿，漲14.55%，報(bào)0.63港元，成交額9351.32萬港元。
消息面上，普拉達(dá)科技此前發(fā)布公告，于10月30日，公司向客戶發(fā)出第100臺(tái)濕法清洗設(shè)備。該購買訂單的收入暫未確認(rèn)。公司向客戶發(fā)出的100臺(tái)濕法清洗設(shè)備包括單片晶圓清洗設(shè)備；及太陽能(000591)電池濕法處理設(shè)備。公司首席執(zhí)行官劉二壯此前指出，當(dāng)前半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化比例仍不及20%，市場對國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的需求仍然很高。
根據(jù)國海證券(000750)的統(tǒng)計(jì)，光刻機(jī)國產(chǎn)化率低于1％，過程檢測設(shè)備約為2％，離子注入設(shè)備3％，刻蝕設(shè)備7％，薄膜沉積設(shè)備8％，涂膠顯影設(shè)備8％，CMP設(shè)備10％，清洗設(shè)備20％，對比2016年半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化進(jìn)程雖持續(xù)提升，但依然任重道遠(yuǎn)。
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清洗設(shè)備,半導(dǎo)體設(shè)備,濕法
