事項：

　　2018年3月28日，財政部等三部門發(fā)布《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策》，2018年1月1日后投資新設(shè)的集成電路線寬小于130納米，且經(jīng)營期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅，并享受至期滿為止。2018年1月1日后投資新設(shè)的集成電路線寬小于65納米或投資額超過150億元，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅，并享受至期滿為止。

　　評論：

　　2018年優(yōu)惠政策是前期政策的延續(xù)，并且對2018年以后新建晶圓產(chǎn)線有所影響。

　　此次政策主要針對中國半導(dǎo)體行業(yè)晶圓制造環(huán)節(jié)，也是中國當前急需縮小與國際領(lǐng)先技術(shù)差距的環(huán)節(jié)。分析此次優(yōu)惠政策變化要素，其中針對“2年減免3年減半”的稅收優(yōu)惠政策，要求2018年之后新投資的晶圓產(chǎn)線，從原來技術(shù)線寬“小于0.8微米”提升到“小于130nm”，并額外增加“經(jīng)營年限要求10年以上”的要求。對于2017年之前已投的產(chǎn)線，若還未盈利可繼續(xù)沿用老的優(yōu)惠政策。另一項針對“5年減免5年減半”的稅收優(yōu)惠政策，要求2018年之后新投資的產(chǎn)線，從原來技術(shù)線寬“小于0.25微米”提升到“小于65nm”，投資金額要求從“不低于80億”提升至“不低于150億”。

　　對于2018年之前已投產(chǎn)線，若未盈利可繼續(xù)沿用老的優(yōu)惠政策。從這兩個變化點顯現(xiàn)，政府大幅提高了晶圓制造環(huán)節(jié)享受稅收優(yōu)惠的門檻，既起到鼓勵實體經(jīng)濟投資建設(shè)先進工藝晶圓制造，又謹防落后產(chǎn)能無序增長，可謂一箭雙雕。