高純/超高純靶材是實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜的關(guān)鍵。主流PVD鍍膜技術(shù)主要包括濺射鍍膜及真空蒸鍍，其中濺射鍍膜主要用于大面積基板材料鍍膜，蒸發(fā)鍍膜主要用于小尺寸基板材料鍍膜，靶材是實(shí)現(xiàn)PVD鍍膜的關(guān)鍵，并且靶材的純度直接決定了最終的電子器件或光學(xué)元器件的質(zhì)量和性能，因此提純及純度控制是靶材制造的關(guān)鍵，一般要求高純度、高致密度、成分與組織結(jié)構(gòu)均勻、晶粒尺寸細(xì)小，目前濺射靶材產(chǎn)品純度一般4-6N。

　　上游高純金屬材料長(zhǎng)期壟斷在美日德企業(yè)，國(guó)內(nèi)廠商正努力尋求突破。高純?yōu)R射靶材是隨半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而興起，美、日企業(yè)對(duì)核心技術(shù)嚴(yán)密把控，掌握行業(yè)主導(dǎo)權(quán)，并且全球半導(dǎo)體工業(yè)的區(qū)域集聚性造就了濺射靶材企業(yè)的聚集度同樣較高。下游領(lǐng)域包括半導(dǎo)體、平板顯示、太陽(yáng)能(000591)LOW-E玻璃等，全球靶材市場(chǎng)規(guī)模呈現(xiàn)快速成長(zhǎng)的勢(shì)頭。濺射靶材行業(yè)受益于下游如平板顯示器、半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、光磁記錄媒體、光學(xué)元器件等快速發(fā)展，2016年全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模約113.6億美元，到2019年將超過(guò)163億美元，CAGR達(dá)13%。

　　由于長(zhǎng)期依賴進(jìn)口，靶材生產(chǎn)國(guó)產(chǎn)化需求日益迫切，將加速本土化發(fā)展，國(guó)家產(chǎn)業(yè)投資基金、各項(xiàng)政策支持，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈包括材料等都將取得快速進(jìn)步，并且目前材料國(guó)產(chǎn)化率較低，從國(guó)家意志層面也有迫切實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化的需求。近年來(lái)國(guó)內(nèi)面板、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速，國(guó)內(nèi)企業(yè)在江豐電子(300666)、阿石創(chuàng)(300706)等企業(yè)的努力下，在靶材生產(chǎn)技術(shù)及市場(chǎng)方面均取得了突破，已有國(guó)內(nèi)龍頭企業(yè)打入核心客戶產(chǎn)業(yè)鏈中。

　　投資建議：隨著此類新興材料公司的不斷上市，濺射靶材領(lǐng)域重點(diǎn)關(guān)注江豐電子(國(guó)內(nèi)最大的半導(dǎo)體芯片用濺射靶材生產(chǎn)商，實(shí)現(xiàn)從0到1突破)及阿石創(chuàng)(綜合型PVD鍍膜材料廠商)，關(guān)注有研新材(600206) (有研億金：國(guó)內(nèi)規(guī)模最大的金屬靶材產(chǎn)業(yè)基地，多次參與國(guó)家項(xiàng)目)、隆華節(jié)能(300263) (四豐電子、晶聯(lián)光電：鉬靶材、ITO靶材國(guó)內(nèi)龍頭企業(yè))